中山專利申請(qǐng)

（一）請(qǐng)求書(shū)的撰寫(xiě)：按照表格的內(nèi)容及提示填寫(xiě)。

（二）說(shuō)明書(shū)的撰寫(xiě)：按照發(fā)明或?qū)嵱眯滦兔Q、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造的目的、技術(shù)方案、有益效果、結(jié)合附圖做進(jìn)一步說(shuō)明、具體實(shí)施方式這些步驟逐一進(jìn)行論述。

（三）權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)：應(yīng)以說(shuō)明書(shū)為依據(jù)，分獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。當(dāng)有多項(xiàng)權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)以阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào)，一般情況下第１項(xiàng)權(quán)利要求即為獨(dú)立權(quán)利要求，余下為從屬權(quán)利要求，需要對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征做進(jìn)一步限定的，即為從屬權(quán)利要求。
獨(dú)立權(quán)利要求通常分前序部分和特征部分：
a． 前序部分，寫(xiě)明要求保護(hù)的主題名稱以及與現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；
b． 特征部分，使用“其特征是．．．．．．”或類似的用語(yǔ)，寫(xiě)明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的獨(dú)到技術(shù)特征。前序部分與特征部分一起，構(gòu)成了該專利申請(qǐng)要求保護(hù)的范圍。
從屬權(quán)利要求的撰寫(xiě)包括引用部分和限定部分：
a． 引用部分：寫(xiě)明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱；
b． 限定部分：寫(xiě)明要求保護(hù)的附加技術(shù)特征。

（四）說(shuō)明書(shū)附圖的繪制。實(shí)用新型專利必須要有附圖；發(fā)明專利一般有附圖，但如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術(shù)方案的，可以沒(méi)有附圖。
附圖可以采用多種形式：
a． 對(duì)于機(jī)械領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以采用各種視圖反映產(chǎn)品的形狀和結(jié)構(gòu)。
b． 對(duì)于電器領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以是電路圖、框圖、示意圖；
c． 對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以用化學(xué)結(jié)構(gòu)式作為附圖；
d． 對(duì)于方法發(fā)明，附圖可以是表示該方法各步驟的工藝流程圖。
附圖的要求：
a． 附圖應(yīng)當(dāng)符合機(jī)械制圖國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，即應(yīng)當(dāng)使用繪圖工具(或電腦繪圖)，用黑色墨水繪制,線條均勻清晰,圖面不著色,圖周?chē)患涌蚓€,不要使用鉛筆圓株筆繪制，但附圖不用標(biāo)注比例和尺寸數(shù)據(jù)。
b． 附圖的大小和清晰度，應(yīng)當(dāng)保證圖縮小到４×６厘米時(shí)，仍能清晰地分辨出圖中的各個(gè)細(xì)節(jié)，并符合照相制版的要求；
c． 同一專利申請(qǐng)的幾幅附圖，可以繪制在同一張專用格式的紙上，并用阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào)，用“圖××”的形式來(lái)表示。
d． 同一專利申請(qǐng)有多頁(yè)附圖的，應(yīng)用阿拉伯?dāng)?shù)字連續(xù)編寫(xiě)頁(yè)碼；
e． 同一專利申請(qǐng)中使用的附圖標(biāo)記必須前后一致，在說(shuō)明書(shū)中未提及的標(biāo)記不得在附圖中出現(xiàn)；
f．附圖中除必要的詞語(yǔ)外，不應(yīng)當(dāng)含有其它注釋。